Mengapa kita beralih dari penggunaan udara panas ke lampu inframerah dalam proses pengeringan semikonduktor
Sejujurnya, tahap pembersihan merupakan tahap di mana segalanya menjadi lambat. Selama bertahun-tahun, pendekatan yang digunakan adalah menggunakan udara panas untuk mengeringkan wafer. Namun, hal ini berarti kita harus memanaskan udara terlebih dahulu agar wafer bisa kering. Ini tentu merupakan pemborosan waktu dan energi.
Itulah sebabnya kita beralih ke penggunaan lampu inframerah yang tahan air. Alih-alih memanaskan seluruh ruangan, lampu ini memancarkan energi langsung ke permukaan wafer. Ini merupakan cara yang sangat efektif untuk mengeringkan wafer.
Soal waktu
Penggunaan udara panas membutuhkan waktu yang lama. Udara panas perlu mendorong kelembapan keluar dan memanaskan udara terlebih dahulu sebelum wafer benar-benar kering. Sedangkan lampu inframerah dapat bekerja secara instan—dalam hitungan detik saja. Dengan demikian, waktu yang diperlukan untuk mengeringkan wafer berkurang drastis. Inilah alasan mengapa pabrik-pabrik yang ingin meningkatkan kapasitas produksinya beralih ke teknologi ini.
Mengatasi masalah kelembapan
Biasanya, lampu inframerah tidak cocok digunakan di lingkungan yang lembap. Lampu biasa akan rusak begitu bersentuhan dengan udara lembap atau cairan yang tumpah dari bak pembersihan. Kami mengatasi hal ini dengan menggunakan kapsul kuarsa yang kedap air, serta seal yang kuat. Dengan cara ini, kelembapan tetap terhalang, dan filamen lampu pun aman. Anda mendapatkan panas yang efektif tanpa khawatir akan terjadi korsleting akibat cairan yang tumpah.
Beberapa hal yang perlu diperhatikan
Tentu saja, ada beberapa hal yang perlu diperhatikan. Karena lampu inframerah menghasilkan panas yang sangat tinggi, Anda perlu memastikan sistem pendinginan berfungsi dengan baik. Jika suhu lampu terlalu tinggi tanpa pengendalian yang tepat, hal tersebut dapat merusak komponen lainnya. Untuk menjaga stabilitas, disarankan menggunakan kontroler PID untuk mengatur intensitas panasnya. Dengan cara ini, suhu permukaan wafer akan tetap stabil, sehingga proses pengeringan berjalan lancar.