ファブの現場では、どうしても予測不可能な要因があります。例えば、フォトレジストの加熱処理でわずかに温度がずれただけでも、全体の製品が廃棄処分になってしまいます。光ウエハーの処理においては、再現性があり、均一で、クリーンな加熱が不可欠です。そのため、私たちはこのヒーターを、そうした要求に合わせて設計しました。推測の余地は一切ありません。
技術的に重要な点は何か？ 私たちは、ウエハー表面全体で±0.1℃の安定した均一性を実現しました。これにより、ソフトベイクやハードベイクのプロセスも、フォトレジストの耐熱範囲内で行われます。ヒーター本体は、クラス1～100のクリーンルーム環境に適しており、すべての発熱面は、サイクルごとに粒子を一切放出しないように設計されています。熱応答も迅速で、オーバーシュートも抑えられているため、リソグラフィ工程間でも設定値が安定しています。
なぜこれが光ウエハー処理に適しているかというと、温度の再現性によって歩留まりが向上し、熱的不均一性による再作業も減少するからです。このデザインにより、設定値が振動せずに保たれるため、エネルギーの無駄遣いもなく、24時間365日稼働し続けることができます。
その結果、信頼性の高い製品が得られ、運用コストも安定します。
注意すべき点は、このヒーターはクリーンに組み込むことができますが、施設の電圧や冷却システムも、その均一性を実現するために適切でなければなりません。事前に排気経路を計画し、装置の取り付け精度も確認してください。正確な機械的整合性があれば、ウエハー全体にわたって均一な熱分布が保たれます。
プロファイルを適切に合わせれば、このヒーターはプロセスに必要な安定性を提供します。