Mengapa pemanasan jenis IR lebih baik daripada penggunaan udara panas untuk pemprosesan wafer
Jika anda masih menggunakan kaedah penggunaan udara panas untuk pemprosesan semikonduktor, kemungkinan besar anda membazir banyak masa hanya untuk menunggu proses selesai. Penggunaan pemanasan jenis inframerah bukanlah sekadar “peningkatan” yang tidak perlu. Ia bertujuan untuk mengurangkan masa yang diperlukan untuk menyelesaikan proses tersebut.
Masalah utama dengan penggunaan udara panas
Fikirkan bagaimana cara kerja udara panas. Kita memerlukan kipas untuk mengalirkan udara panas ke permukaan wafer, agar tenaga yang dihasilkan dapat mencukupi untuk proses pemprosesan. Namun, cara ini sangat lambat. Ia sama seperti cuba memanaskan sebuah bilik menggunakan pengering rambut—anda perlu menggunakan banyak tenaga hanya untuk menggerakkan udara.
IR pula berbeza. Ia merupakan radiasi elektromagnetik. Tenaga yang dihasilkan bergerak pada kelajuan cahaya, dan ia sampai terus ke permukaan wafer. Masa yang diperlukan untuk proses pemprosesan berkurangan dari minit menjadi saat sahaja. Ini merupakan perbezaan yang sangat ketara.
Menghilangkan masalah “bottleneck”
Dalam proses pemprosesan yang kompleks, masa merupakan faktor yang paling penting. “Kos masa” inilah yang sering menyebabkan masalah dalam proses pemprosesan.
Dengan penggunaan lampu IR, kita dapat menghasilkan haba yang tepat ke tempat yang diperlukan. Kita tidak perlu membazir tenaga untuk memanaskan seluruh ruang, hanya untuk memanaskan satu wafer saja. Dengan cara ini, pengawal PID dapat mencapai suhu yang ditetapkan dengan lebih cepat.
Kita biasanya menggunakan IR berfrekuensi pendek atau sederhana. Mengapa? Kerana kita memerlukan tenaga yang cukup untuk meresap ke dalam bahan wafer, bukan hanya untuk memanaskan permukaannya sahaja.
Hal-hal yang perlu diperhatikan
Anda tidak boleh begitu saja menggantikan pemanas lama dengan pemanas IR. IR mempunyai arah yang tertentu. Jika penempatan lampu IR tidak betul atau permukaan wafer tidak rata, maka akan timbul kawasan yang terlalu panas. Anda perlu memastikan panjang fokus lampu IR sesuai. Selain itu, kerana IR menghasilkan tenaga dengan cepat, sistem penyejukan juga perlu mampu menghadapi perubahan suhu yang mendadak. Jika sistem penyejukan tidak mampu mengatasinya, wafer akan rosak.
Apa maksudnya bagi operasi pengeluaran
Realitinya, penggunaan udara panas merupakan cara yang membazir. Anda perlu membayar untuk memanaskan udara yang tidak akan menyentuh produk anda langsung. Dengan menggunakan IR, saiz peralatan pemanasan akan berkurangan, dan masa yang diperlukan untuk proses pemprosesan juga akan berkurangan. Jika anda ingin memproses lebih banyak wafer tanpa perlu membeli lima mesin lagi, inilah cara yang terbaik.