ในโรงงานผลิตชิป การเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิเพียง 0.5°C ระหว่างขั้นตอนการอบวัสดุโฟโต์เรซิสต์ ก็เพียงพอที่จะทำให้ชิปทั้งชุดเสียหายได้ ดังนั้น การควบคุมอุณหภูมิในระดับเวเฟอร์จึงไม่ใช่เรื่องที่สามารถประมาทได้เลย เราออกแบบแพลตฟอร์มการให้ความร้อนโดยคำนึงถึงข้อเท็จจริงนี้เป็นหลัก
สิ่งที่สำคัญทางเทคนิคก็คือ อุปกรณ์ส่งความร้อนแบบอินฟราเรดใกล้ช่วยให้อุณหภูมิในบริเวณที่ใช้งานอยู่มีความสม่ำเสมอภายในช่วง ±0.1°C และความแม่นยำของอุณหภูมิก็อยู่ที่ ±0.2°C ระหว่างแต่ละชุดผลิตภัณฑ์ อัตราการเพิ่มอุณหภูมิอยู่ที่ 10°C/วินาที โดยไม่มีการเกินอุณหภูมิที่กำหนด ดังนั้น โปรไฟล์อุณหภูมิในขั้นตอนการอบจึงยังคงสม่ำเสมอ ระบบนี้เหมาะสำหรับห้องผลิตชนิด Class 1–100 และบริเวณที่มีความร้อนสูงนั้นถูกออกแบบมาเพื่อไม่ให้เกิดอนุภาคใดๆ ซึ่งช่วยให้อัตราการปนเปื้อนของพื้นผิวอยู่ที่ต่ำกว่า 1 อนุภาคต่อเวเฟอร์หนึ่งชุด ระบบนี้สามารถทำงานต่อเนื่องได้ โดยมีอายุการใช้งานมากกว่า 50,000 ชั่วโมง และอุปกรณ์ให้ความร้อนก็มีความเสถียรในการทำงานมากกว่า 5,000 ชั่วโมง โดยมีการเปลี่ยนแปลงความเข้มของความร้อนน้อยกว่า 5%
ในกระบวนการลิโธกราฟี ความแม่นยำนี้มีความสำคัญมาก เพราะช่วยให้โปรไฟล์ของโฟโต์เรซิสต์อยู่ในเกณฑ์ที่กำหนด ช่วยให้สามารถควบคุมขนาดของชิปได้อย่างแม่นยำ และลดจำนวนชิปที่ต้องนำมาแก้ไข นอกจากนี้ การใช้พลังงานก็ลดลง เพราะเราสามารถปรับค่าการส่งความร้อนให้เหมาะสมกับความสามารถในการดูดซับความร้อนของโฟโต์เรซิสต์ได้ ซึ่งช่วยลดพลังงานที่ใช้ต่อเวเฟอร์หนึ่งชุด โดยไม่ส่งผลต่ออัตราการผลิต และความน่าเชื่อถือของระบบก็ช่วยให้ไม่มีปัญหาฉุกเฉินเกิดขึ้น โดยอุปกรณ์ต่างๆ จะสามารถทำงานได้อย่างต่อเนื่องตลอดเวลา
นี่คือรายละเอียดทางปฏิบัติของระบบนี้ การให้ความร้อนแบบอินฟราเรดนั้นจำเป็นต้องมีแสงที่ส่องเข้ามาอย่างตรงกัน และมีเส้นทางการส่งแสงที่ควบคุมได้ อุปกรณ์สะท้อนแสงและอุปกรณ์ป้องกันก็ต้องเหมาะสมกับสเปกตรัมของอุปกรณ์ส่งความร้อนด้วย มิฉะนั้นก็จะเกิดจุดที่มีความร้อนสูงขึ้นมา นอกจากนี้ การติดตั้งระบบนี้ยังต้องมีการจัดหาแหล่งพลังงานที่เหมาะสม และมีการแยกความร้อนจากอุปกรณ์อื่นๆ ด้วย และบริเวณที่มีความร้อนสูงนั้นก็จำเป็นต้องมีการบำรุงรักษาทุกๆ 8,000 ชั่วโมง เพื่อให้อุณหภูมิยังคงสม่ำเสมอ
ควรมีเวลาสำหรับการทดสอบระบบก่อนเริ่มใช้งานจริง ระบบนี้จะทำงานได้ก็ต่อเมื่ออุปกรณ์ส่งความร้อน ตัวรับสัญญาณ และตัวควบคุมทั้งหมดอยู่ในตำแหน่งที่เหมาะสมเท่านั้น