Při redistribuci signálů jde především o kontrolu teploty. Během zasychání epoxidové směsi vznikají „horká místa“, během zpracování fotorezistu dochází k posunům teploty – a najednou musíte řešit problémy s šířkou čar a rovností povrchu komponent. Ohřívač musí zajistit konstantní teplotu – u každého čipu, u každé série, v každé směně.
Co je opravdu důležité
Ohřívač pro redistribuci signálů jsme vyvinuli na základě krátkovlnných infračervených halogenních kvartových emitorů. Jedná se o rychlé nahřívání na povrchu, takže lze udržet teplotu pod kontrolou. V aktivní zóně dosahuje jednotnost teploty ±0,1 °C, měřeno na holém křemíku pomocí termočlánků. Reakce ohřívače je během sekund, což je důležité při použití uzavřeného regulačního systému při zpracování fotorezistu. Čistá pracovní prostředí třídy 1–100 jsou zajištěna díky nízkému množství výparů a absenci částic během stabilního provozu. V praxi funguje 24/7, s tisíci hodinami mezi údržbními intervalemi.
Proč to funguje v produkcích
Při redistribuci signálů se nejprve zpracovává fotorezistent, poté se zasychá podkladová hmota a nakonec se roztékají komponenty – každý krok je klíčový pro dosažení požadovaných výsledků. Ohřívač stabilizuje teplotní profil, aby kritické rozměry zůstaly v požadovaných mezích a mezery v podkladové hmotě byly minimální. Vysoká jednotnost teploty snižuje počet odmítnutých kusů na okrajích waferů, zatímco opakovatelnost usnadňuje přenos mezi jednotlivými sériemi. Spotřeba energie klesá, protože kvartové emitory nahřívají pouze cílovou oblast, nikoli celou komoru. Výsledkem je více kvalitních čipů na jeden wafer, méně oprav a možnost plánování provozu.
Co je potřeba vzít v úvahu hned na začátku
Ohřívač se může integrovat do stávajících zařízení na nanášení vrstev a ohřev, ale velikost montážní plochy a otvorů musí odpovídat danému zařízení. Budete potřebovat speciální napájení a ochranu proti elektromagnetickým rušením v citlivých oblastech. Pokud se nastavená teplota přesáhne 250 °C, dejte pozor na rozhraní mezi kvartem a keramikou – poskytujeme kurvu teplotního snižování. Plánujte integraci co nejdříve, aby proces proběhl rychle.