Fab on Indoor Warm IR Solutions

Certifikovaná továrna na infračervené zasychací lampy

Tue, 21 Jul 2026 02:06:44 +0800

Proč se tak zaměřujeme na testování izolace u infračervených lamp

Při používání infračervených lamp na vytvrzování materiálů se setkáváte s extrémním spojením vysoké teploty a vysokého napětí. V takovém prostředí není malá porucha izolace jen nepříjemností – nemusí to vést jen k prasknutí pojistky. Může to okamžitě zničit celou vaši výrobní linku. Ještě horší je, že to může proměnit váš přístroj v vážné nebezpečí pro osoby, které ho obsluhují. To je riziko, které nehodláme podstoupit.

Výroba infračervených lamp z uhlíkových vláken

Thu, 16 Jul 2026 01:27:49 +0800

Přestaňte zahřívat celou strojovnu a začněte zahřívat samotný wafer. Pokud jste někdy strávili čas v továrně na polovodiče, víte, o co jde. Je potřeba dostat wafer na požadovanou teplotu, ale většina infračervených lamp v podstatě funguje jako běžné žárovky – vyzařují teplo do všech směrů. To je plýtvání energií. Ještě horší je, že to z příslušenství stroje udělá obrovský radiátor, což představuje nebezpečí pro lidi, kteří stojí poblíž. Proto jsme přešli na infračervené lampy z uhlíkových vláken.

Energetická auditizace sušení v továrně

Fri, 03 Jul 2026 03:14:02 +0800

V prostorách určených k sušení se nejedná jen o krok po čištění. Právě zde zbytečná vlhkost a nerovnoměrné teplo postupně ničí povrchovou vrstvu potřebnou k litografii a narušují profil fotorezisty. Když trouba nedokáže udržet konstantní teplotu v celé oblasti, objevují se problémy s okraji, odštěpením povrchové vrstvy a posunem polohy CD. To vede ke ztrátám materiálu, nutnosti oprav a k další spotřebě energie při opakovaném sušení.

Co je důležité v podstatě
Náš systém pro sušení je navržen tak, aby zajistil rovnoměrnost a opakovatelnost teploty na úrovni waferů. Cílem je dosáhnout rozptylu teploty ±0,1 °C v celé komoře během procesu měkkého i tvrdého sušení. Zdrojem tepla je krátkovlnné infrazrádné světlo s přesnou regulací spektra – díky tomu dochází k rychlému a efektivnímu sušení bez překročení stanovených hodnot. Kompatibilita s čistými prostředími je definována v rámci tříd 1–100. Přesnost procesu je ověřována pomocí sledování počtu částic v prostředí. Platforma funguje 24/7 bez jakýchkoliv plánovaných přerušení, díky prediktivní údržbě životnosti lamp a regulaci teploty. Také zaznamenáváme spotřebu energie na jednu várku – díky tomu můžete sledovat spotřebu energie na jeden wafer a spojit ji přímo s kvalitou sušení.

Zónové vytápění pro pokročilou výrobu polovodičových destiček

Tue, 09 Jun 2026 01:03:40 +0800

Na lithografické lince může odchylka teploty 0,3 °C během měkkého pečení photoresistu způsobit výkyvy šířky čar, které se přenášejí do etchování a přímo do ztráty výnosu. Tepelný rozpočet vám nedává druhou šanci. Vybudovali jsme zónové vytápění pro pokročilé výrobny wafrů, abychom udrželi teplotu tam, kde by měla být – na wafru, na jeho povrchu a uvnitř procesního okna.

Co je technicky důležité, je kontrola, které můžete důvěřovat. Platforma využívá prvky s krátkovlnným infračerveným zářením s rychlou odezvou v každé zóně, takže uniformita na úrovni wafru dosahuje ±0,1 °C napříč horkou deskou. Opakovatelnost teploty je ≤±0,5 °C mezi šaržemi, což udržuje stabilní kritické profily pečení photoresistu. Funguje v čistých místnostech třídy 1–100, aniž by zvyšovala počty částic – materiály s nízkým odplyňováním a uzavřené tepelné zóny udržují linii rovnou. Získáte nepřetržitý provoz s MTBF měřeným v desítkách tisíc hodin a údržbu, kterou plánujete, nikoli sháníte.