Reflektor für Wafer Aushärtungslampe

Mon, 13 Jul 2026 17:04:19 +0800

Hören Sie auf, Ihre Energie zu verschwenden: Eine bessere Methode zur Behandlung von Wafern
Wenn Sie eine IR-Lampe ohne Reflektor verwenden, um Wafern zu behandeln, verschwenden Sie im Grunde die Hälfte Ihrer Energie.
Stellen Sie sich vor: Standard-IR-Lampen strahlen Wärme in alle Richtungen aus – insgesamt 360 Grad. In einer engen Behandlungsbox bedeutet das, dass die Hälfte der Wärme einfach an den Wänden abprallt. Das ist nicht nur eine Verschwendung von Energie, sondern macht auch das Innere der Maschine zu einem riesigen Radiator. Das ist ein Albtraum für das Kühlungssystem – und außerdem birgt es ein echtes Verbrennungsrisiko für die Personen, die dort Wartungsarbeiten durchführen müssen.
So lösen wir dieses Problem.
Wir verwenden gekrümmte Reflektoren, um die Wärme gezielt in die richtige Richtung zu lenken. Anstatt dass die Strahlung frei herumläuft, fängt der Reflektor sie auf und leitet sie direkt auf den Wafer.
Es handelt sich dabei um eine einfache Lösung – doch sie verändert alles. So erhalten Sie einen viel intensiveren Wärmestrom genau dort, wo er benötigt wird, während der Rest der Maschine relativ kühl bleibt. Die Maschine muss somit keine Wärme aufnehmen, die sie eigentlich nicht benötigt.
Die richtige Wahl des Reflektors
Je nach Wellenlänge der Lampe verwenden wir in der Regel goldbeschichtete oder hochreines Aluminium. Gold gilt als goldener Standard für Langwellen-IR-Lampen, da es sehr gut reflektiert. Wenn jedoch Hochleistungs-Lampen mit kurzen Wellenlängen verwendet werden, benötigt man einen Reflektor, der die Wärme aushalten kann, ohne zu verbiegen.
Aber Vorsicht: Wenn man einen Strahl bündelt, konzentriert man viel Energie. Wenn die Lampe zu stark ist oder zu nah platziert wird, entstehen heiße Stellen – oder schlimmer noch: Der Wafer wird beschädigt. Es geht darum, den idealen Punkt für Fokuspunkt und Behandlungszyklus zu finden.
Warum das wichtig ist
Durch den Einsatz eines Reflektors wird eine ungenaue Wärmequelle zu einem präzisen Werkzeug. Ihre Klimaanlagen und Kühlsysteme müssen nicht mehr so hart arbeiten. Zudem können Ihre Mitarbeiter Wartungsarbeiten durchführen, ohne befürchten zu müssen, eine glühend heiße Wand zu berühren. Es handelt sich dabei um eine einfache, mechanische Lösung, die ein großes thermisches Problem beseitigt.

Aushärtung des Underfills für Halbleiter IR

Thu, 02 Jul 2026 03:15:59 +0800

Auf der Produktionsfläche kommt es bei der Aushärtung des Underfills für Halbleiterbauelemente zu Konflikten zwischen den thermischen Anforderungen und der gewünschten Qualität. Ein Bauelement kann unterbehandelt werden – anschließend tritt nach dem Reflow-Vorgang Delaminierung auf, wodurch der Cpk-Wert außerhalb der Spezifikationen liegt. Wir haben unser System zur Aushärtung des Underfills so konzipiert, dass das thermische Profil stabil bleibt – dadurch können alle Bauelemente die erforderlichen Qualitätsansprüche erfüllen, ohne diese zu überschreiten.

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Reflektor für Wafer Aushärtungslampe

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