Heizer für die Verarbeitung von optischen Wafern

Sat, 27 Jun 2026 01:27:53 +0800

In der Fertigungshalle läuft es meist so ab: Eine geringfügige Abweichung bei der Erhitzung des Fotolacks führt dazu, dass die gesamte Charge als Schrott endet. Bei der Verarbeitung von optischen Wafern ist eine wiederholbare, gleichmäßige und saubere Hitzeübertragung entscheidend. Wir haben diesen Heizer so konstruiert, dass er diesen Anforderungen entspricht – schließlich gibt es keinen Platz für Vermutungen.

Was technisch wichtig ist:
Wir haben das System so eingestellt, dass die Temperatur auf dem gesamten Waferflächenbereich innerhalb von ±0,1°C bleibt. Dadurch bleiben die Parameter der Weich- und Hartbehandlung innerhalb der zulässigen Grenzen des Fotolacks. Der Heizer ist für Umgebungen der Klassen 1–100 geeignet, und jede Heizzone ist so gestaltet, dass keine Teilchen freigesetzt werden. Die thermische Reaktion erfolgt schnell, und die Steuerung sorgt dafür, dass die Setpunkte zwischen den Lithografieschritten stabil bleiben.

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Heizer für die Verarbeitung von optischen Wafern