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		<title>Eau on Indoor Warm IR Solutions</title>
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				<title>Lampe de séchage à eau déionisée</title>
				<link>http://warm-ir-indoor.com/fr/posts/deionized-water-drying-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 19 Jun 2026 02:18:05 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-indoor.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Lampe de séchage à eau déionisée&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur le sol en pierre, une &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;seule&lt;/a&gt; trace d’eau suffit pour détruire toute une série de wafers. Il est donc essentiel d’utiliser de l’eau déionisée pour le nettoyage. Si l’humidité n’est pas complètement éliminée, cela peut entraîner des contaminations, ce qui aura pour conséquence de nuire à l’adhésion du photorésistant. Le séchage traditionnel crée des gradients thermiques sur le wafer, ce qui perturbe les paramètres de cuisson nécessaires. De plus, si les chauffages ne sont pas suffisamment stables, les particules qu’ils émettent peuvent faire dépasser les limites autorisées en termes de nombre de particules dans l’environnement de travail stérile.&lt;/p&gt;</description>
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