Avenir de la technologie de chauffage à semi conducteurs

Fri, 26 Jun 2026 01:28:03 +0800

Sur le floor de fabrication, une dérive de température de 0,5 °C pendant le processus de séchage du photorésiste suffit pour rendre toute une série de produits invendables. Le contrôle de la température au niveau de la pâte céramique n’est pas une simple recommandation : c’est une exigence absolue. Nous avons conçu la plateforme de chauffage en tenant compte de cette réalité.

Ce qui est important sur le plan technique : Notre réseau d’émetteurs infrarouge proche garantit une uniformité de température de ±0,1 °C dans toute la zone active de la pâte céramique. La répétabilité de la température de référence reste à ±0,2 °C d’un lot à l’autre. Les rampes de température atteignent 10 °C/s sans excès, ce qui permet de maintenir un profil thermique stable, tant pour le séchage doux que pour le séchage intense. Le système est conçu pour fonctionner dans des environnements de classe 1–100, et la zone chaude est conçue pour ne pas générer de particules, ce qui permet de garder la contamination de surface en dessous de 1 particule par passage de la pâte céramique. Le système fonctionne en continu, avec une durée de vie moyenne supérieure à 50 000 heures. L’architecture du chauffage permet de maintenir une stabilité de l’intensité de chaleur sur plus de 5 000 heures, avec une dérive inférieure à 5 %.

Semi Conducteur on Indoor Warm IR Solutions

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