Di proses litografi, proses pemanasan fotorezist bukanlah sekadar langkah tambahan saja; itu merupakan bagian penting dari proses produksi yang tidak boleh diabaikan. Perbedaan suhu sebesar setengah derajat saja sudah dapat mengganggu kontrol dimensi komponen tersebut dan merusak profil dinding sampingnya. oven konvensional memiliki masalah terkait massa termal yang tinggi, laju pemanasan yang lambat, serta risiko adanya partikel-partikel tertentu selama proses pemanasan berlangsung. Pengering inframerah yang kompak ini dirancang untuk mengatasi semua masalah tersebut.
Apa yang penting dalam proses ini? Kami menggunakan pemancar cahaya inframerah dekat (NIR) dengan desain gelombang pendek tanpa menggunakan halogen. Energi panas ditransfer langsung ke permukaan wafer. Hal ini memungkinkan stabilisasi suhu dalam waktu kurang dari 10 detik, dengan tingkat ketepatan suhu sekitar ±0,1°C di seluruh permukaan wafer. Ketepatan suhu antar siklus pemanasan mencapai ±0,2°C, sehingga proses pemanasan fotorezist tetap terkendali. Alat ini cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dengan jendela kaca kuarsa yang tertutup rapat serta sistem ventilasi yang mencegah munculnya partikel selama proses berlangsung. Kontrol suhu dilakukan menggunakan sistem PID, sehingga Anda dapat mengatur parameter pemanasan secara akurat.
Mengapa alat ini cocok untuk digunakan dalam proses produksi? Anda menggunakan wafer berukuran 200 mm dan 300 mm, lapisan fotorezist yang tipis, serta batasan suhu yang ketat. Pengering ini memiliki laju pemanasan yang cepat tanpa menyebabkan lonjakan suhu yang berlebihan, sehingga waktu proses dapat dikurangi dan penggunaan energi pun berkurang. Alat ini dapat digunakan dalam berbagai peralatan produksi, dan ukurannya cukup kecil sehingga tidak membutuhkan ruang yang banyak. Dengan demikian, jumlah produk cacat akan berkurang, distribusi dimensi komponen akan lebih akurat, dan tingkat produksi dapat diprediksi dengan lebih baik. Keandalan alat ini sangat tinggi, bahkan setelah puluhan ribu siklus pemanasan sekalipun. Umur pemancar cahaya juga cukup lama, sehingga alat ini dapat digunakan 24/7 tanpa memerlukan perawatan yang sering.
Detil yang memastikan kualitas alat ini Pemancar cahaya NIR memiliki kemampuan pemanasan yang cepat, sehingga Anda perlu memperhatikan aspek kopling termalnya. Bagian yang digunakan untuk menahan wafer harus sesuai dengan permukaan belakang wafer tersebut. Kami menyediakan berbagai jenis bak penahan wafer, baik yang standar maupun yang disesuaikan dengan kebutuhan khusus. Lakukan uji coba singkat untuk menyesuaikan laju pemanasan dan batasan suhu yang sesuai dengan jenis fotorezist yang digunakan. Persyaratan operasionalnya sederhana: tegangan 110–240 V, udara bertekanan, dan sistem ventilasi. Namun, pastikan tegangan listrik dan tekanan udara di ruang bersih sesuai dengan spesifikasi yang ditentukan sebelum memasang alat ini.