Dalam proses redistribusi sinyal, hal yang paling penting adalah pengendalian suhu. Ada risiko munculnya “hotspot” saat bahan epoxy mengeras, serta adanya perubahan suhu selama proses pengeringan fotoresist. Hal ini menyebabkan kesulitan dalam mengontrol lebar garis dan kesejajaran permukaan komponen. Pemanas harus mampu memberikan suhu yang konsisten, baik untuk setiap chip, setiap batch produksi, maupun setiap shift kerja.
Apa yang benar-benar penting
Kami menggunakan pemanas tipe WLP yang berbasis emiter inframerah gelombang pendek. Cara pemanasan ini efektif dan cepat, sehingga memungkinkan pengendalian suhu yang lebih baik. Di area aktif, tingkat keseragaman suhu mencapai ±0,1°C, sebagaimana diukur pada silikon mentah menggunakan termokopel. Respons pemanas terjadi dalam hitungan detik, yang sangat penting ketika diperlukan kontrol siklus tertutup yang tepat selama proses pengeringan. Desain pemanas ini juga dirancang agar tidak menghasilkan gas berbahaya dan tidak menimbulkan partikel apa pun selama operasi berlangsung. Di lapangan, pemanas ini dapat beroperasi 24/7, dengan interval perawatan yang panjang.
Mengapa pemanas ini cocok untuk produksi
Dalam proses redistribusi, fotoresist dipanaskan terlebih dahulu, lalu bahan underfill dikeringkan, dan akhirnya komponen-komponen tersebut dilelehkan. Setiap langkah ini merupakan faktor penentu kualitas produk. Pemanas ini membantu menjaga stabilitas suhu, sehingga dimensi komponen tetap sesuai spesifikasi, dan rongga akibat underfill tetap minimal. Keseragaman suhu yang tinggi mengurangi jumlah chip yang gagal, sedangkan kemampuan reproduksi yang baik memudahkan proses transfer antar batch produksi. Penggunaan energi pun berkurang, karena emiter kuarsa hanya memanaskan area yang dituju saja, bukan seluruh ruang dalam chamber. Hasilnya: lebih banyak chip berkualitas tinggi per wafer, lebih sedikit proses perbaikan, dan waktu operasi yang lebih efisien.
Hal-hal yang perlu diperhatikan sejak awal
Pemanas ini dapat dipasang pada alat pelapis/pengering yang sudah ada, tetapi ukuran dan bentuk pemasangannya harus sesuai dengan alat tersebut. Diperlukan pasokan daya khusus serta isolasi yang memadai untuk menghindari gangguan EMI di area yang sensitif. Jika suhu operasional melebihi 250°C, perlu diperhatikan bagian antarmuka antara kuarsa dan keramik. Kami menyediakan kurva penurunan performa pemanas akibat suhu yang tinggi. Persiapkan integrasi pemanas ini sejak awal, agar proses produksi berjalan lancar.