<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Kompak on Indoor Warm IR Solutions</title>
		<link>http://warm-ir-indoor.com/id/tags/kompak/</link>
		<description>Recent content in Kompak on Indoor Warm IR Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 01:08:55 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-indoor.com/id/tags/kompak/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pengering inframerah berukuran kecil untuk IC</title>
				<link>http://warm-ir-indoor.com/id/posts/compact-infrared-dryer-for-ic/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 01:08:55 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-indoor.com/id/posts/compact-infrared-dryer-for-ic/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-indoor.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Pengering inframerah berukuran kecil untuk IC&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di proses litografi, proses pemanasan fotorezist bukanlah sekadar langkah tambahan saja; itu &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;merupakan&lt;/a&gt; bagian penting dari proses produksi yang tidak boleh diabaikan. Perbedaan suhu sebesar setengah derajat saja sudah dapat mengganggu kontrol dimensi komponen tersebut dan merusak profil dinding sampingnya. oven konvensional memiliki masalah terkait massa termal yang tinggi, laju pemanasan yang lambat, serta risiko adanya partikel-partikel tertentu selama proses pemanasan berlangsung. Pengering inframerah yang kompak ini dirancang untuk mengatasi semua masalah tersebut.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dalam proses ini?&lt;/strong&gt;&#xA;Kami menggunakan pemancar cahaya inframerah dekat (NIR) dengan desain gelombang pendek tanpa menggunakan halogen. Energi panas ditransfer langsung ke permukaan wafer. Hal ini memungkinkan stabilisasi suhu dalam waktu kurang dari 10 detik, dengan tingkat ketepatan suhu sekitar ±0,1°C di seluruh permukaan wafer. Ketepatan suhu antar siklus pemanasan mencapai ±0,2°C, sehingga proses pemanasan fotorezist tetap terkendali. Alat ini cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dengan jendela kaca kuarsa yang tertutup rapat serta sistem ventilasi yang mencegah munculnya partikel selama proses berlangsung. Kontrol suhu dilakukan menggunakan sistem PID, sehingga Anda dapat mengatur parameter pemanasan secara akurat.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
