Masa depan teknologi pemanasan berbasis semikonduktor

Fri, 26 Jun 2026 01:28:03 +0800

Di ruang produksi, perubahan suhu sebesar 0,5°C selama proses pemanasan fotoresist sudah cukup untuk membuat seluruh produk yang dihasilkan menjadi tidak layak digunakan. Batas suhu yang dapat diterima pada tingkat wafer bukanlah sekadar saran saja, melainkan merupakan syarat mutlak. Kami merancang platform pemanasan sesuai dengan kenyataan tersebut.

Dari segi teknis, yang penting adalah: – Array emitor inframerah dekat (NIR) kami mampu menjaga keseragaman suhu pada tingkat wafer hingga ±0,1°C di area yang aktif. Tingkat repetibilitas pengaturan suhu tetap stabil pada kisaran ±0,2°C antar batch. Laju peningkatan suhu mencapai 10°C/detik tanpa terjadi overshoot, sehingga profil termal selama proses pemanasan tetap terjaga. Sistem ini dirancang untuk digunakan di lingkungan klasis 1–100, dan zona panasnya dirancang agar tidak menghasilkan partikel sama sekali—sehingga kontaminasi permukaan tetap di bawah 1 partikel per wafer. Sistem ini dapat beroperasi secara kontinu, dengan masa pakai lebih dari 50.000 jam, dan arsitektur pemanasnya mampu menjaga stabilitas keluaran energi selama lebih dari 5.000 jam, dengan perubahan intensitas energi kurang dari 5%.

Teknologi on Indoor Warm IR Solutions

Masa depan teknologi pemanasan berbasis semikonduktor