Lampada per essiccazione _con acqua deionizzata

Fri, 19 Jun 2026 02:18:05 +0800

Sul piano di lavoro in pietra, basta un singolo segno di umidità per rovinare l’intero lotto di wafer. È necessario utilizzare acqua deionizzata per pulire il superficie dei wafer; se l’umidità non viene eliminata completamente, si rischia la contaminazione dei wafer, con conseguente perdita dell’adesione del fotoresist. La disidratazione tradizionale crea gradienti termici sul wafer, il che influisce negativamente sui processi di trattamento termico. Inoltre, se i riscaldatori non sono sufficientemente stabili, le particelle che essi emettono possono portare il numero di particelle presenti nella camera sterile al di fuori dei limiti consentiti.

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Lampada per essiccazione _con acqua deionizzata