Dalam proses litografi, proses pemanasan bahan fotoresist bukan sekadar langkah biasa saja; ia merupakan aspek penting yang tidak boleh diabaikan. Sebarang perubahan suhu sebanyak setengah darjah semasa proses pemanasan akan menjejaskan kawalan dimensi kritikal wafer dan merosakkan profil dindingnya. Ketuhar konvensional mempunyai masalah berkaitan dengan pengagihan haba yang tidak seragam, serta risiko kehadiran zarah-zarah halus semasa proses pemanasan. Pemanas inframerah jenis padat yang digunakan untuk IC direka untuk mengatasi masalah-masalah ini.
Apa yang penting di bahagian dalam
Kami menggunakan pemanas jenis inframerah dekat (NIR) yang berreka bentuk tanpa halogen, sehingga tenaga dapat disalurkan secara langsung ke wafer. Ini membolehkan proses penstabilan suhu berlaku dalam masa kurang dari 10 saat, dengan ketepatan suhu sekitar ±0.1°C pada keseluruhan permukaan wafer. Ketekalan suhu antara setiap sesi pemanasan pula adalah sekitar ±0.2°C, jadi proses penggunaan bahan fotoresist dapat dikawal dengan lebih baik. Unit ini sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, dengan tingkap kuarza yang tertutup rapat dan sistem pengudaraan yang efektif, sehingga mengurangkan risiko kehadiran zarah-zarah halus semasa operasi. Kawalan suhu dilakukan menggunakan sistem PID, dan ia juga bersedia untuk digunakan bersama peralatan SECS/GEM, agar proses pemanasan dapat dikawal dengan lebih tepat.
Mengapa ia sesuai untuk digunakan dalam proses pengeluaran
Anda menggunakan wafer berukuran 200 mm dan 300 mm, serta lapisan bahan fotoresist yang tipis. Proses pemanasan perlu dilakukan dengan cepat tanpa menyebabkan masalah. Pemanas ini membolehkan proses pemanasan berlaku dengan cepat, sekaligus mengurangkan masa yang diperlukan dan penggunaan tenaga. Ia juga mudah dipasang pada pelbagai jenis peralatan, dan saiznya cukup kecil untuk tidak memakan ruang yang banyak. Dengan adanya pemanas ini, jumlah bahan sisa akan berkurangan, dan kualiti wafer dapat dikawal dengan lebih baik. Kebolehpercayaannya sangat tinggi, kerana ia mampu bertahan selama puluhan ribu kali proses pemanasan, dan umur pakainya juga panjang, sehingga memudahkan penyelenggaraan.
Butiran yang memastikan keberkesanan pemanas ini
Pemanas jenis NIR memanaskan wafer dengan cepat, namun kelajuan ini memerlukan perhatian khusus terhadap faktor-faktor yang berkaitan dengan pengagihan haba. Permukaan wafer perlu disesuaikan dengan permukaan pemanas tersebut. Kami menyediakan pelbagai jenis pemanas yang sesuai untuk keperluan anda. Proses penyesuaian parameter pemanasan memerlukan ujian awal untuk memastikan hasil yang diharapkan dapat dicapai. Bekalan tenaga yang diperlukan adalah mudah – 110–240 V, udara bertekanan, dan sistem pengudaraan. Namun, pastikan voltan dan tekanan udara di bilik bersih sesuai sebelum memasangnya.