Di ruang pengolahan cip tersebut, anda pasti tahu prosedurnya. Perubahan suhu sebanyak 0.3°C semasa proses pemanasan fotoresist boleh menyebabkan ketidaktepatan pada dimensi cip, dan ini akan merugikan anda secara besar-besaran. Lampu pemanas Evatec direka khusus untuk mengelakkan perubahan suhu tersebut dari berlaku.
Apa yang benar-benar penting
Kami menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek dengan sistem kawalan berpusat, agar suhu di permukaan wafer kekal stabil pada tahap ±0.1°C. Masa tindak balasnya kurang dari 200 ms, bermakna perubahan suhu dapat dikawal dengan cepat—tanpa berlaku peningkatan suhu yang berlebihan yang boleh merosakkan lapisan permukaan wafer. Badan lampu ini sesuai digunakan dalam bilik bersih bertaraf Class 1–100, dan reka bentuknya yang mengawal jumlah zarah memastikan tiada kontaminasi semasa proses pengolahan yang panjang. Keluaran lampu tetap stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan suhu yang kurang dari 5%.
Mengapa ini penting dalam proses litografi dan pemanasan
Dalam proses litografi dan pengolahan fotoresist, suhu pemanasan yang tepat sangat penting untuk menentukan dimensi dan kelikatan lapisan permukaan wafer. Evatec memastikan proses pemanasan berjalan secara konsisten, sehingga kualiti wafer tetap stabil dari satu batch ke batch yang lain. Suhu yang stabil membolehkan masa proses dipendekkan, serta mengurangkan penggunaan tenaga untuk setiap wafer.
Dalam barisan pembungkusan pula, ketepatan ini memastikan proses pengerasan bahan polimer berjalan dengan lancar, sekali gus mengurangkan masalah seperti rongga atau keperluan untuk memproses semula wafer. Ini seterusnya membawa kepada pengurangan kos dan masa yang diperlukan untuk proses pengolahan.
Apa yang perlu dilakukan untuk memastikan prestasi yang optimal
Lampu tersebut boleh dipasang secara langsung ke dalam alat Evatec, tetapi ia memerlukan sumber kuasa yang stabil serta kontak elektrik yang bersih agar sistem kawalan berfungsi dengan baik. Pemilihan bahan chuck dan kadar emisinya juga penting—kami menyediakan arahan penggunaan untuk permukaan aluminium, seramik, dan permukaan yang dilapisi bahan tertentu.
Adalah disyorkan untuk melakukan kalibrasi setiap tiga bulan, dan pemeriksaan lampu setiap tahun. Ini akan memastikan suhu tetap stabil dan jumlah zarah yang terkandung dalam lampu berada pada tahap yang sesuai.