Fab on Indoor Warm IR Solutions

Pengilang lampu pengeringan inframerah yang berdaftar.

Tue, 21 Jul 2026 02:06:44 +0800

Mengapa Kita Perlu Memberi Perhatian Kepada Ujian Insulasi untuk Lampu IR

Apabila menggunakan lampu pengeringan inframerah, kita berhadapan dengan gabungan suhu yang sangat tinggi dan voltan yang tinggi. Dalam keadaan seperti ini, sebarang kerosakan pada lapisan insulasi bukan sekadar masalah kecil. Ia bukan sekadar menyebabkan fius terputus sahaja.

Kerosakan tersebut boleh memusnahkan seluruh proses pengeluaran dalam sekelip mata. Lebih buruk lagi, ia boleh menjadikan peralatan tersebut sebagai sumber bahaya elektrik yang serius bagi orang-orang yang mengendalikannya. Itu bukan risiko yang sanggup kita ambil.

Lampu inframerah diperbuat daripada serat karbon

Thu, 16 Jul 2026 01:27:49 +0800

Berhentilah memanaskan mesin tersebut, dan mulailah memanaskan wafer tersebut sahaja. Jika anda pernah bekerja di kilang semikonduktor, anda pasti tahu betapa susahnya proses ini. Anda perlu menaikkan suhu wafer tersebut, tetapi kebanyakan lampu IR sebenarnya hanyalah mentol biasa yang mengeluarkan haba ke semua arah. Ini merupakan pembaziran tenaga. Lebih teruk lagi, ia akan menjadikan badan mesin tersebut sebagai radiator yang besar, yang berbahaya bagi sesiapa yang berada berdekatan dengannya. Itulah sebabnya kami beralih kepada penggunaan lampu IR berbahan karbon fiber.

Pengauditan tenaga untuk proses pengeringan kilang

Fri, 03 Jul 2026 03:14:02 +0800

Di fasiliti pengeringan ini, proses pengeringan bukan sekadar langkah yang dilakukan setelah pembersihan sahaja. Ia merupakan proses di mana kelembapan yang masih tinggal serta suhu yang tidak seragam akan merosakkan lapisan fotorezist dan mengganggu struktur fotorezist tersebut. Apabila ketuhar gagal mengekalkan suhu yang sama di seluruh permukaan wafer, masalah seperti bintik-bintik pada tepi wafer, keretakan permukaan wafer, dan perubahan bentuk wafer akan berlaku. Ini seterusnya menyebabkan pembaziran bahan, perlu dilakukan kerja pembaikan semula, dan peningkatan kos tenaga kerana perlu memanggang semula wafer tersebut.

Pemanasan zon untuk pembuatan wafer lanjutan

Tue, 09 Jun 2026 01:03:40 +0800

Pada aras litografi, pergeseran 0.3°C semasa pemanasan lembut photoresist boleh menyebabkan variasi lebar garis sepanjang proses etsa dan terus menjejaskan hasil pengeluaran. Bajet terma tidak memberi peluang kedua. Kami membina pemanasan berk zon untuk fasiliti wafer canggih agar suhu kekal pada tahap yang diperlukan—pada wafer, merata di permukaan, dan dalam julat proses.

Apa yang penting, dari segi teknikal, adalah kawalan yang boleh dipercayai. Platform ini menggunakan elemen inframerah gelombang pendek dengan kawalan tindak balas pantas setiap zon, supaya keseragaman pada tahap wafer mencapai ±0.1°C di seluruh pinggan panas. Kebolehulangan suhu adalah ≤±0.5°C dari satu lot ke lot lain, yang mengekalkan profil pembakaran photoresist yang kritikal stabil. Ia beroperasi dalam bilik bersih Kelas 1–100 tanpa meningkatkan jumlah zarah—bahan rendah pengeluaran gas dan zon termal yang dimeteraikan memastikan garis suhu stabil. Anda mendapat operasi 24/7 dengan MTBF diukur dalam puluhan ribu jam, serta penyelenggaraan yang boleh dijadualkan dan tidak perlu dilakukan secara tergesa-gesa.