<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Kompak on Indoor Warm IR Solutions</title>
		<link>http://warm-ir-indoor.com/ms/tags/kompak/</link>
		<description>Recent content in Kompak on Indoor Warm IR Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 01:08:55 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-indoor.com/ms/tags/kompak/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pengering inframerah yang kompak untuk IC</title>
				<link>http://warm-ir-indoor.com/ms/posts/compact-infrared-dryer-for-ic/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 01:08:55 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-indoor.com/ms/posts/compact-infrared-dryer-for-ic/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-indoor.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Pengering inframerah yang kompak untuk IC&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Dalam proses litografi, proses pemanasan bahan fotoresist bukan sekadar langkah biasa saja; ia merupakan aspek penting yang tidak boleh diabaikan. Sebarang perubahan suhu sebanyak setengah darjah semasa proses pemanasan akan menjejaskan kawalan dimensi kritikal wafer dan merosakkan profil dindingnya. &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;Ketuhar&lt;/a&gt; konvensional mempunyai masalah berkaitan dengan pengagihan haba yang tidak seragam, serta risiko kehadiran zarah-zarah halus semasa proses pemanasan. Pemanas inframerah jenis padat yang digunakan untuk IC direka untuk mengatasi masalah-masalah ini.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting di bahagian dalam&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami menggunakan pemanas jenis inframerah dekat (NIR) yang berreka bentuk tanpa &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;halogen&lt;/a&gt;, sehingga tenaga dapat disalurkan secara langsung ke wafer. Ini membolehkan proses penstabilan suhu berlaku dalam masa kurang dari 10 saat, dengan ketepatan suhu sekitar ±0.1°C pada keseluruhan permukaan wafer. Ketekalan suhu antara setiap sesi pemanasan pula adalah sekitar ±0.2°C, jadi proses &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;penggunaan&lt;/a&gt; bahan fotoresist dapat dikawal dengan lebih baik. Unit ini sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, dengan tingkap kuarza yang tertutup rapat dan sistem pengudaraan yang efektif, sehingga mengurangkan risiko kehadiran zarah-zarah halus semasa operasi. Kawalan suhu dilakukan menggunakan sistem PID, dan ia juga bersedia untuk digunakan bersama peralatan SECS/GEM, agar proses pemanasan dapat dikawal dengan lebih tepat.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
