<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Pemprosesan on Indoor Warm IR Solutions</title>
		<link>http://warm-ir-indoor.com/ms/tags/pemprosesan/</link>
		<description>Recent content in Pemprosesan on Indoor Warm IR Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 01:27:53 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-indoor.com/ms/tags/pemprosesan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas untuk pemprosesan wafer optik</title>
				<link>http://warm-ir-indoor.com/ms/posts/optical-wafer-processing-heater/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 01:27:53 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-indoor.com/ms/posts/optical-wafer-processing-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-indoor.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Pemanas untuk pemprosesan wafer optik&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di fasiliti &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;pengeluaran&lt;/a&gt; cip optik, anda tahu bagaimana keadaannya: sedikit saja kesilapan semasa proses pemanasan bahan fotoresist boleh menyebabkan keseluruhan kumpulan cip tersebut menjadi tidak berguna. Proses pemprosesan wafer optik sangat bergantung pada suhu yang konsisten, seragam, dan bersih. Kami mencipta pemanas ini agar dapat &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;memenuhi&lt;/a&gt; &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;keperluan&lt;/a&gt; tersebut, kerana tiada ruang untuk kesilapan dalam proses pengeluaran.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dari segi teknikalnya:&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami menetapkan suhu pada tahap ±0.1°C supaya suhu yang dihasilkan tetap seragam di seluruh permukaan wafer. Dengan cara ini, proses pemanasan dapat berjalan dengan lancar tanpa masalah. Badan pemanas ini sesuai digunakan dalam persekitaran kelas 1–100, dan setiap permukaan panasnya direka agar tidak menghasilkan zarah-zarah yang boleh merosakkan wafer. Tindak balas termalnya juga cepat, dan suhu dapat dikawal dengan baik, sehingga suhu tetap stabil antara setiap langkah pengeluaran.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
