Pemanasan zon untuk pembuatan wafer lanjutan

Tue, 09 Jun 2026 01:03:40 +0800

Pada aras litografi, pergeseran 0.3°C semasa pemanasan lembut photoresist boleh menyebabkan variasi lebar garis sepanjang proses etsa dan terus menjejaskan hasil pengeluaran. Bajet terma tidak memberi peluang kedua. Kami membina pemanasan berk zon untuk fasiliti wafer canggih agar suhu kekal pada tahap yang diperlukan—pada wafer, merata di permukaan, dan dalam julat proses.

Apa yang penting, dari segi teknikal, adalah kawalan yang boleh dipercayai. Platform ini menggunakan elemen inframerah gelombang pendek dengan kawalan tindak balas pantas setiap zon, supaya keseragaman pada tahap wafer mencapai ±0.1°C di seluruh pinggan panas. Kebolehulangan suhu adalah ≤±0.5°C dari satu lot ke lot lain, yang mengekalkan profil pembakaran photoresist yang kritikal stabil. Ia beroperasi dalam bilik bersih Kelas 1–100 tanpa meningkatkan jumlah zarah—bahan rendah pengeluaran gas dan zon termal yang dimeteraikan memastikan garis suhu stabil. Anda mendapat operasi 24/7 dengan MTBF diukur dalam puluhan ribu jam, serta penyelenggaraan yang boleh dijadualkan dan tidak perlu dilakukan secara tergesa-gesa.

Zonasi on Indoor Warm IR Solutions

Pemanasan zon untuk pembuatan wafer lanjutan