Op de lithografieafdeling is het bakken van de fotoresist geen gewone stap – het is een cruciale thermische verwerking die niet mag worden verwaarloosd. Een verschil van zelfs een halve graad in de temperatuur tijdens het bakken kan leiden tot problemen met de controle van de belangrijkste dimensies en tot afwijkingen in het profiel van de zijkanten van de wafer. Conventionele ovens hebben veel warmteopslag, trage opwarmtijden en het risico op vuildeeltjes. De compacte infrarooddroger voor IC’s is ontworpen om deze problemen te vermijden.
Wat er echt toe doet We gebruiken infraroodemitters die werken op kortegolflengten en geen halogeen bevatten. Hierdoor wordt de energie rechtstreeks in de wafer geleid. Dit zorgt voor een stabilisatie van minder dan 10 seconden en voor een uniformiteit van ±0,1°C over de hele wafer. De herhaalbaarheid van de temperatuur per batch is ±0,2°C, zodat de procesparameters goed onder controle blijven. De droger past in schone ruimtes van klasse 1–100, dankzij gesloten kwartsramen en een laminaire afvoer die het risico op vuildeeltjes tijdens gebruik tot nul reduceert. De bediening gebeurt via PID-kontrol, zodat je de processparameters nauwkeurig kunt bepalen.
Waarom dit geschikt is voor gebruik Je gebruikt waferën van 200 mm en 300 mm, dunne lagen fotoresist, en de thermische vereisten zijn zeer strikt. Deze droger bereikt snel de gewenste temperatuur, zonder dat er sprake is van overtollige warmte. Hierdoor wordt de tijd die nodig is voor het proces verkort en wordt er minder energie verbruikt. De droger kan worden gebruikt in combinatie met andere apparaten of als standalone-apparaat. Het apparaat is voldoende compact om ruimte op de vloer te besparen. Hierdoor zijn er minder defecten en kan je beter plannen voor de productie. De betrouwbaarheid van het apparaat is hoog, zelfs na tienduizenden cycli. De levensduur van de emitters is voldoende om het apparaat 24/7 in gebruik te houden, met minimale onderhoudskosten.
De details die belangrijk zijn Infraroodstraling verwarmt snel, maar dat betekent ook dat je goed moet letten op de thermische overdracht. De chuck moet goed passen bij de achterkant van de wafer. We leveren zowel standaard als maatgemaakte chucks om een goede contactoppervlakte te behouden. Je moet rekening houden met een korte inrichtingsperiode om de opwarmtijd en eventuele fouten aan te passen voor jouw specifieke setup. De benodigde stroom is eenvoudig: 110–240 V, gestoomd water en afvoerlucht. Controleer echter eerst de lokale spanning en de druk in de schone ruimte voordat je het apparaat installeert.