<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>IC on Indoor Warm IR Solutions</title>
		<link>http://warm-ir-indoor.com/nl/tags/ic/</link>
		<description>Recent content in IC on Indoor Warm IR Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 01:08:55 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-indoor.com/nl/tags/ic/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Compacte infrarooddroger voor IC</title>
				<link>http://warm-ir-indoor.com/nl/posts/compact-infrared-dryer-for-ic/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 01:08:55 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-indoor.com/nl/posts/compact-infrared-dryer-for-ic/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-indoor.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Compacte infrarooddroger voor IC&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de lithografieafdeling is het &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;bakken&lt;/a&gt; van de fotoresist geen gewone stap – het is een cruciale thermische verwerking die niet mag worden verwaarloosd. Een verschil van zelfs een halve graad in de temperatuur tijdens het bakken kan leiden tot problemen met de controle van de belangrijkste dimensies en tot afwijkingen in het profiel van de zijkanten van de wafer. Conventionele ovens hebben veel warmteopslag, trage opwarmtijden en het risico op vuildeeltjes. De compacte infrarooddroger voor IC’s is ontworpen om deze problemen te vermijden.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
