Industriële wafer droogsysteemverwarmer

Wed, 10 Jun 2026 01:49:39 +0800

Op de productievloer komt de wafer uit de laatste spoeling – en dan begint de klok te lopen. Blijf te lang aan de natte kant hangen en je ziet patronen instorten. Laat de bake-stap ook maar een graad afwijken, en je introduceert photoresist-defecten die pas bij de elektrische test zichtbaar worden.
De droogheater is geen “nice-to-have.” Het is een echt procesregelpunt.

Wat er onder de motorkap echt toe doet
We bouwen deze droogheaters rond één getal: thermische uniformiteit van ±0,1°C over het wafervlak. Dit bereiken we met een indeling van kortegolf infrarood (IR) emitter en geslotenregelkring op elke zone — zodat de ingestelde waarde de gemeten temperatuur is, niet een afgeleide proxy.
Chambermaterialen worden geselecteerd op lage uitgassing, en het luchtstroompad is zo ontworpen dat het vermijden van deeltjesafgifte wordt gegarandeerd. In cleanroomklasse 1–100 houdt het systeem de deeltjesproductie laag genoeg om de lithografiestapel te beschermen. Dit vertaalt zich in herhaalbare soft bake en hard bake, met temperatuurstabiliteit die ervoor zorgt dat kritische dimensie (CD) en zijwandhoek binnen specificatie blijven.

Systeem on Indoor Warm IR Solutions

Industriële wafer droogsysteemverwarmer