
Na fase de litografia, o processo de secagem do fotoresistente não é apenas mais um passo no processo – é um fator térmico que não pode ser negligenciado. Uma pequena variação na temperatura durante a secagem pode afetar o controle das dimensões críticas dos componentes e alterar o perfil das paredes laterais dos mesmos. Os fornos convencionais apresentam problemas como alta massa térmica, tempos de aquecimento lentos e o risco constante de formação de partículas. O secador infravermelho compacto para IC foi desenvolvido para eliminar esses problemas.
O que realmente importa Utilizamos emissores de luz infravermelha de onda curta, sem halogênio, que transferem energia diretamente para o componente a ser seco. Isso permite uma estabilização em menos de 10 segundos, com uniformidade de temperatura de ±0,1°C em toda a superfície do wafer. A repetibilidade da temperatura entre diferentes ciclos de secagem fica em torno de ±0,2°C, mantendo assim um controle preciso do processo de secagem do fotoresistente. O equipamento é compatível com salas limpas de classe 1–100, contando com janelas de quartzo seladas e um sistema de exaustão que evita a formação de partículas durante a operação. O controle é feito por meio de sistema PID, com suporte a protocolos SECS/GEM, permitindo assim o controle preciso dos parâmetros de secagem.
Por que ele se adapta bem às linhas de produção Você trabalha com wafers de 200 mm e 300 mm, além de estruturas finas de fotoresistente. Nesses casos, é fundamental ter um controle preciso da temperatura. Este secador permite um aquecimento rápido, sem excessos de temperatura, reduzindo assim o tempo de ciclo e economizando energia. Ele pode ser integrado a ferramentas de controle ou usado de forma independente. Além disso, seu tamanho é pequeno o suficiente para não ocupar muito espaço no chão. Isso resulta em menos produtos defeituosos, distribuição mais uniforme das dimensões dos componentes e maior taxa de produção. A confiabilidade do equipamento é alta, com vida útil dos emissores suficiente para operação 24/7, reduzindo assim a necessidade de manutenções frequentes.
Os detalhes que garantem sua eficácia A luz infravermelha aquece rapidamente, o que significa que é necessário ter cuidado com o acoplamento térmico. O suporte do wafer precisa ser compatível com a superfície traseira do mesmo. Oferecemos suportes padrão e personalizados para garantir um contato preciso. É necessário realizar testes preliminares para ajustar as taxas de aquecimento e evitar excessos de temperatura. As necessidades energéticas são simples: 110–240 V, ar comprimido e sistema de exaustão. No entanto, verifique a tensão local e a pressão na sala limpa antes da instalação.