Aquecedor para processamento de wafers ópticos

Sat, 27 Jun 2026 01:27:53 +0800

Na linha de produção, você sabe como é: um pequeno desvio na temperatura de cozimento do fotoresist faz com que todo o lote se torne descartável. O processamento de wafers ópticos depende de uma temperatura consistente, uniforme e precisa. Criamos este aquecedor para atender a essas exigências, pois não há espaço para erros.

O que é importante tecnicamente:
O sistema foi projetado para manter uma uniformidade de temperatura de ±0,1°C em toda a superfície do wafer. Assim, os perfis de cozimento do fotoresist ficam dentro dos limites estabelecidos. O corpo do aquecedor é compatível com ambientes de classe 1–100, e todas as superfícies quentes são projetadas para não liberar partículas durante o funcionamento. A resposta térmica é rápida, com controle preciso da temperatura, garantindo que os pontos de ajuste permaneçam estáveis entre as etapas de litografia.

Processamento on Indoor Warm IR Solutions

Aquecedor para processamento de wafers ópticos