Будущее технологий нагрева на основе полупроводников

Fri, 26 Jun 2026 01:28:03 +0800

На производственном участке достаточно небольшого отклонения температуры в 0,5°C во время процесса обжига фотополимера, чтобы списать целую партию продукции. Установление оптимальной температуры на уровне пластинки — это не просто рекомендация, а необходимость. Мы спроектировали систему отопления с учетом этих требований.

С технической точки зрения важно следующее: наша сетка из источников излучения в диапазоне ближнего инфракрасного света обеспечивает единообразие температуры на уровне пластинки в пределах ±0,1°C в активной зоне. Повторяемость значений температуры составляет ±0,2°C между отдельными партиями продукции. Скорость повышения температуры достигает 10°C/с без перегрева, что позволяет сохранять стабильный тепловой профиль во время процессов обжига. Система предназначена для использования в чистых помещениях класса 1–100; кроме того, горячая зона разработана таким образом, чтобы не возникало никаких частиц, что позволяет поддерживать уровень загрязнения поверхности ниже 1 частицы на одну пластинку за процедуру обработки. Система работает непрерывно; время безотказной работы превышает 50 000 часов. Архитектура нагревателя обеспечивает стабильность мощности в течение более 5 000 часов при отклонении интенсивности излучения менее чем на 5%.

Будущее on Indoor Warm IR Solutions

Будущее технологий нагрева на основе полупроводников