<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Деионизированный on Indoor Warm IR Solutions</title>
		<link>http://warm-ir-indoor.com/ru/tags/%D0%B4%D0%B5%D0%B8%D0%BE%D0%BD%D0%B8%D0%B7%D0%B8%D1%80%D0%BE%D0%B2%D0%B0%D0%BD%D0%BD%D1%8B%D0%B9/</link>
		<description>Recent content in Деионизированный on Indoor Warm IR Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 19 Jun 2026 02:18:05 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-indoor.com/ru/tags/%D0%B4%D0%B5%D0%B8%D0%BE%D0%BD%D0%B8%D0%B7%D0%B8%D1%80%D0%BE%D0%B2%D0%B0%D0%BD%D0%BD%D1%8B%D0%B9/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Лампа для сушки деионизированной воды</title>
				<link>http://warm-ir-indoor.com/ru/posts/deionized-water-drying-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 19 Jun 2026 02:18:05 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-indoor.com/ru/posts/deionized-water-drying-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-indoor.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Лампа для сушки деионизированной воды&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На поверхности кристалла достаточно одного следа воды, чтобы это привело к порче всей партии изделий. Необходимо использовать деионизированную воду для очистки; если влагу не удастся полностью удалить, это приведет к загрязнению поверхности и снижению качества прилипания фотополимера. Традиционные методы сушки создают температурные градиенты на поверхности кристалла, что нарушает правильность процесса сушки. Кроме того, если нагреватели не являются стабильными по температуре, частицы, которые они выделяют, могут повысить концентрацию частиц в чистой комнате сверх допустимых значений.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Что же делать? Мы разработали устройство для сушки деионизированной воды, основанное на кратковолновых инфракрасных излучателях, помещенных в кварцевую оболочку. Это устройство работает без контакта с поверхностью кристалла, быстро нагревает его, а время реакции составляет менее секунды.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
