<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Компактний on Indoor Warm IR Solutions</title>
		<link>http://warm-ir-indoor.com/uk/tags/%D0%BA%D0%BE%D0%BC%D0%BF%D0%B0%D0%BA%D1%82%D0%BD%D0%B8%D0%B9/</link>
		<description>Recent content in Компактний on Indoor Warm IR Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 01:08:55 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-indoor.com/uk/tags/%D0%BA%D0%BE%D0%BC%D0%BF%D0%B0%D0%BA%D1%82%D0%BD%D0%B8%D0%B9/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Компактний інфрачервоний сушар для ІС</title>
				<link>http://warm-ir-indoor.com/uk/posts/compact-infrared-dryer-for-ic/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 01:08:55 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-indoor.com/uk/posts/compact-infrared-dryer-for-ic/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-indoor.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Компактний інфрачервоний сушар для ІС&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На етапі літографії процес висушування фотополімеру є не просто ще одним кроком у процесі виробництва – це важлива частина термального контролю, яку неможливо ігнорувати. Навіть незначна зміна температури під час висушування може призвести до порушення контролю за критичними розмірами та зміни профілю стінок чипа. Традиційні печі мають велику термічну ємність, повільну швидкість нагріву, а також постійний ризик утворення частинок пилу. Компактний інфрачервоний сушар для ІЧ-чипів розроблений саме для усунення цих проблем.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що є важливим у його конструкції&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;У цьому сушарі використовуються джерела ближнього інфрачервоного випромінювання без галогенів; енергія передається безпосередньо на поверхню чипа. Це дозволяє досягти стабілізації температури менше ніж за 10 секунд, а єднаковість температури по всій поверхні чипа становить ±0,1°C. Повторюваність температури між окремими процедурами сушіння становить ±0,2°C, тож параметри процесу фотополімеризації залишаються точними. Сушара підходить для приміщень класу чистоти 1–100; вона має герметичні кварцові вікна та систему відведення повітря, яка запобігає утворенню частинок пилу під час роботи. Контроль температури здійснюється за допомогою системи PID; також є можливість керування процесом через формат SECS/GEM. Це дозволяє точно контролювати параметри процесу сушіння.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
