http://warm-ir-indoor.com/uk/tags/%D0%BD%D0%B5%D0%B4%D0%BE%D0%BB%D0%B8%D0%B2/ Recent content in Недолив on Indoor Warm IR Solutions Hugo uk Thu, 02 Jul 2026 03:15:59 +0800 http://warm-ir-indoor.com/uk/posts/underfill-curing-for-semiconductor-ir/ Thu, 02 Jul 2026 03:15:59 +0800 http://warm-ir-indoor.com/uk/posts/underfill-curing-for-semiconductor-ir/ <p><img src="http://warm-ir-indoor.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="Затвердіння під наповнювачем для напівпровідників у інфрачервоному діапазоні"></p> <p>На виробничій лінії під час висушування матеріалу для заповнення простору навколо транзисторів виникає конфлікт між тепловими умовами та якістю продукції. Якщо одна з деталей не пройде процедуру висушування належним чином, після процедури рефлюксу може виникнути розшарування матеріалу, а показник Cpk буде виходити за межі допустимих значень. Ми розробили систему висушування матеріалу за допомогою НІР, щоб зберегти стабільні теплові умови, тож кожна деталь проходить процедуру без проблем.</p> <p><strong>Що є важливим з технічної точки зору:</strong><br> У зоні висушування досягається теплова однорідність на рівні ±0,1°C, і цей показник залишається стабільним протягом усього процесу. Енергія НІР швидко проникає в матеріал, сприяючи його висушуванню без пошкодження самого підкладку. Таким чином теплове навантаження залишається в межах допустимих значень. Система працює 24/7 без утворення частинок, підходить для роботи в чистих приміщеннях класу 1–100. Контроль температури є на рівні, який очікується під час процедур „м’якого“ та „жорсткого“ висушування – цілісність фоторезисту зберігається, а критичні розміри не змінюються.</p>