<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>IC on Indoor Warm IR Solutions</title>
		<link>http://warm-ir-indoor.com/vi/tags/ic/</link>
		<description>Recent content in IC on Indoor Warm IR Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 01:08:55 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-indoor.com/vi/tags/ic/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Máy sấy hồng ngoại gọn nhẹ dùng cho IC</title>
				<link>http://warm-ir-indoor.com/vi/posts/compact-infrared-dryer-for-ic/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 01:08:55 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-indoor.com/vi/posts/compact-infrared-dryer-for-ic/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-indoor.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Máy sấy hồng ngoại gọn nhẹ dùng cho IC&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Trong quy trình in ấn bằng phương pháp photolithography, việc sấy khô lớp photoresist không chỉ là một bước đơn giản; đó là yếu tố quan trọng liên quan đến khả năng kiểm soát nhiệt độ. Chỉ cần có sự sai lệch 0,5 độ trong quá trình sấy khô, thì việc kiểm soát kích thước các chi tiết trên wafer sẽ bị ảnh hưởng, dẫn đến sai lệch về hình dạng các bức tường bao quanh wafer. Các lò sấy thông thường gây ra nhiều vấn đề như sự chênh lệch nhiệt độ, tốc độ sấy chậm, và nguy cơ xuất hiện các hạt bụi. Lò sấy bằng tia hồng ngoại dành cho IC được thiết kế để loại bỏ những vấn đề này.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
