Di fasiliti pengeringan ini, proses pengeringan bukan sekadar langkah yang dilakukan setelah pembersihan sahaja. Ia merupakan proses di mana kelembapan yang masih tinggal serta suhu yang tidak seragam akan merosakkan lapisan fotorezist dan mengganggu struktur fotorezist tersebut. Apabila ketuhar gagal mengekalkan suhu yang sama di seluruh permukaan wafer, masalah seperti bintik-bintik pada tepi wafer, keretakan permukaan wafer, dan perubahan bentuk wafer akan berlaku. Ini seterusnya menyebabkan pembaziran bahan, perlu dilakukan kerja pembaikan semula, dan peningkatan kos tenaga kerana perlu memanggang semula wafer tersebut.
Apa yang penting dalam sistem pengeringan ini
Kami membina sistem pengeringan yang memastikan keseragaman suhu pada setiap titik pada wafer. Sasaran suhu yang dicapai adalah ±0.1°C sepanjang proses pengeringan. Sumber haba yang digunakan ialah gelombang inframerah pendek, dengan kawalan spektrum yang tepat agar dapat memberikan respons yang cepat tanpa berlaku overshoot. Keserasian dengan bilik bersih juga diperhatikan, dengan standard kelas 1–100. Kami juga memastikan tiada zarah berbahaya yang terhasil melalui pemantauan secara langsung. Sistem ini beroperasi 24/7 tanpa gangguan, dengan penyelenggaraan yang efektif untuk memastikan prestasi yang stabil. Kami juga mencatat penggunaan tenaga untuk setiap sesi pengeringan, agar dapat mengetahui jumlah kilowatt-jam yang digunakan untuk setiap wafer, dan mengaitkannya dengan kualiti pengeringan.
Inilah sebabnya mengapa perkara ini penting dalam praktiknya: ia membantu menjaga kualiti wafer dan memastikan proses pengeringan berjalan dengan lancar. Kawalan suhu yang tepat membantu memelihara integriti fotorezist, mengurangkan kecacatan pada tepi wafer, dan memastikan bentuk wafer tetap sesuai dengan spesifikasi yang ditetapkan. Data penggunaan tenaga pula membolehkan kita mengubah proses pengeringan daripada proses yang memerlukan kos yang tinggi menjadi proses yang lebih terkawal – kurangnya keperluan untuk memanggang semula wafer, masa proses yang lebih singkat, serta penggunaan gas dan elektrik yang lebih rendah. Ia juga membantu menstabilkan suhu pada setiap wafer, sekali gus meningkatkan kualiti pengeringan dan mengurangkan variasi antara setiap batch wafer.
Proses penyesuaian sistem pengeringan ini agak mudah, tetapi perlu disesuaikan dengan konfigurasi peralatan, susunan port, dan sistem pelepasan udara yang ada. Proses penyesuaian ini memerlukan masa yang singkat untuk menyesuaikan kadar pemanasan dan masa yang diperlukan untuk proses pengeringan. Perlu diingat bahawa proses penyejukan yang terkawal diperlukan semasa beralih antara proses pembersihan pada suhu rendah dan proses pengeringan pada suhu tinggi. Tanpa proses penyejukan yang terkawal, ia boleh menyebabkan kontaminasi mikro. Oleh itu, reka bentuk aliran udara dan sistem pelepasan udara perlu direncanakan dengan baik – keserasian dengan bilik bersih dan kualiti hasil pengeringan bergantung pada hal ini.