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Abaixo você encontrará as páginas que utilizam o termo de taxonomia “Wafer”
Sensor de IR de precisão para wafer

Sensor de IR de precisão para wafer

Pare de desperdiçar calor: uma maneira melhor de aquecer suas 웨이퍼 O aquecimento de uma 웨이퍼 de silício requer precisão. Mas o problema é que as...
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Distância de segurança para aquecimento da wafer

Distância de segurança para aquecimento da wafer

Mantendo tudo seguro ao aquecer wafers perto de produtos químicos voláteis Sejamos honestos: aquecer wafers em uma área de limpeza química é como...
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Aquecedor para secagem de wafers de sensores MEMS

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Como secar as placas de sensores MEMS sem problemas Secar as placas de sensores MEMS é uma tarefa delicada. É preciso que a água desapareça...
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Aquecedor de wafer com eficiência energética

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Por que o aquecimento por radiação infravermelha é melhor que o uso de ar quente no processamento de wafers Se você ainda está utilizando circulação...
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Sensor de temperatura para ferramentas de wafer

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Como evitar a poeira: Como conseguir um aquecimento sem contaminação alguma Num ambiente limpo de classe 100, até mesmo uma única partícula de poeira...
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Refletor para lâmpada de cura de wafers

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Pare de desperdiçar seu calor: uma maneira melhor de curar os wafers Se você estiver utilizando uma lâmpada IR sem refletor para curar os wafers, na...
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Lâmpada de secagem de bolachas por atacado

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Introdução Quando se opera uma linha de secagem de wafers, nada é mais importante do que manter as rodas em funcionamento contínuo. A disponibilidade...
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Aquecedor de embalagem em nível de wafer

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Na etapa de redistribuição, o controle térmico é fundamental. Um ponto quente durante a cura do composto epóxico usado no molde, ou alguma variação...
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Aquecedor para processamento de wafers ópticos

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Na linha de produção, você sabe como é: um pequeno desvio na temperatura de cozimento do fotoresist faz com que todo o lote se torne descartável. O...
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Aquecimento zonificado para fabricação avançada de wafers

Aquecimento zonificado para fabricação avançada de wafers

No piso de litografia, uma deriva de 0,3°C durante o soft bake do fotorresiste pode causar variações na largura da linha durante a etapa de gravação...
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