На виробничій лінії під час висушування матеріалу для заповнення простору навколо транзисторів виникає конфлікт між тепловими умовами та якістю продукції. Якщо одна з деталей не пройде процедуру висушування належним чином, після процедури рефлюксу може виникнути розшарування матеріалу, а показник Cpk буде виходити за межі допустимих значень. Ми розробили систему висушування матеріалу за допомогою НІР, щоб зберегти стабільні теплові умови, тож кожна деталь проходить процедуру без проблем.
Що є важливим з технічної точки зору:
У зоні висушування досягається теплова однорідність на рівні ±0,1°C, і цей показник залишається стабільним протягом усього процесу. Енергія НІР швидко проникає в матеріал, сприяючи його висушуванню без пошкодження самого підкладку. Таким чином теплове навантаження залишається в межах допустимих значень. Система працює 24/7 без утворення частинок, підходить для роботи в чистих приміщеннях класу 1–100. Контроль температури є на рівні, який очікується під час процедур „м’якого“ та „жорсткого“ висушування – цілісність фоторезисту зберігається, а критичні розміри не змінюються.
Ось чому цей метод ефективний при великом обсязі виробництва: швидкість висушування матеріалу визначає швидкість всієї лінії. НІР скорочує час виконання процедури, не завдаючи шкоди адгезії матеріалів чи їх формі. Це також зменшує кількість бракованих виробів та необхідності повторної обробки. Використання енергії зменшується через швидкість та точність процедури висушування, а повторюваність результатів забезпечує стабільність показника OEE. Від початкового етапу до готової деталі досягається стабільна адгезія матеріалів, передбачувані значення коефіцієнта теплового розширення, а також менше несправностей під час процедур термічних циклів.
Коротко кажучи: метод висушування матеріалу за допомогою НІР є ефективним. У складних геометричних умовах потрібен ретельний дизайн пристроїв чи додатковий етап висушування. Налаштування системи відбувається швидко – достатньо налаштувати параметри лампи, швидкість конвеєра та емісійні властивості матеріалу. Після налаштування процес залишається стабільним незалежно від типу продукції. Однак, якщо змінюється склад матеріалу, необхідно провести повторну налаштування для забезпечення стабільності теплових умов.