Trong quy trình sản xuất, sự thay đổi nhiệt độ 0,5°C trong quá trình nung phim khoáng cũng đủ để làm hỏng toàn bộ lô sản phẩm. Việc kiểm soát nhiệt độ ở cấp độ wafer không chỉ là điều khuyến nghị mà còn là yêu cầu bắt buộc. Chúng tôi thiết kế bộ phận gia nhiệt dựa trên nguyên tắc này.
Về mặt kỹ thuật, điều quan trọng là bộ phát ánh sáng hồng ngoại gần của chúng tôi giúp duy trì độ đồng đều của nhiệt độ ở mức ±0,1°C trên toàn bộ diện tích wafer. Độ chính xác của nhiệt độ được duy trì ở mức ±0,2°C giữa các lô sản phẩm. Tốc độ tăng nhiệt độ lên tới 10°C/giây mà không xảy ra hiện tượng vượt quá ngưỡng cho phép; do đó, đồ thị nhiệt độ trong quá trình nung vẫn được duy trì ổn định. Hệ thống này được thiết kế để hoạt động trong môi trường sạch cấp độ 1–100, và khu vực gia nhiệt được thiết kế sao cho không tạo ra bất kỳ hạt bụi nào – giúp duy trì mức độ ô nhiễm bề mặt dưới mức 1 hạt/wafer. Hệ thống hoạt động liên tục với thời gian hoạt động trung bình trên 50.000 giờ; bộ phận gia nhiệt vẫn duy trì được độ ổn định trong hơn 5.000 giờ, với mức sai lệch nhiệt độ dưới 5%.
Trong công nghệ in ấn, độ chính xác này rất quan trọng – nó ảnh hưởng trực tiếp đến tỷ lệ sản phẩm đạt chuẩn. Độ đồng đều của phim khoáng được duy trì ở mức tốt, việc kiểm soát kích thước các chi tiết quan trọng cũng được thực hiện chính xác hơn, từ đó giảm số lượng sản phẩm cần sửa chữa. Việc sử dụng năng lượng cũng được giảm bớt nhờ việc điều chỉnh thông số phát sáng sao cho phù hợp với khả năng hấp thụ ánh sáng của phim khoáng, giúp giảm lượng năng lượng cần thiết mà vẫn duy trì tốc độ sản xuất. Độ tin cậy của hệ thống cũng cao, giúp các mô-đun liên quan hoạt động ổn định từ ca này sang ca khác.
Đây là những chi tiết kỹ thuật cụ thể. Việc sử dụng bộ phát ánh sáng hồng ngoại đòi hỏi phải có đường truyền ánh sáng rõ ràng và được kiểm soát chặt chẽ. Các bộ phận phản quang và chướng ngại vật cần được thiết kế phù hợp với phổ ánh sáng phát ra; nếu không, sẽ xuất hiện những điểm nóng. Việc tích hợp hệ thống đòi hỏi phải có nguồn điện riêng biệt và cách ly nhiệt với các mô-đun khác. Khu vực gia nhiệt cần được bảo trì định kỳ sau mỗi 8.000 giờ để duy trì độ đồng đều của nhiệt độ.
Hãy lên kế hoạch cho thời gian khởi động hệ thống một cách cẩn thận. Hệ thống chỉ hoạt động tốt khi toàn bộ các thành phần cần thiết – bộ phát ánh sáng, cảm biến và bộ điều khiển – được điều chỉnh sao cho phù hợp với wafer.