Di bilik pengeluaran, perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pembakaran bahan fotoresist sudah cukup untuk memusnahkan keseluruhan kumpulan wafer tersebut. Had suhu pada tahap wafer bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan – ia merupakan syarat yang mesti dipatuhi. Kami merancang platform pemanasan berdasarkan realiti ini.
Dari segi teknikalnya, apa yang penting ialah: Arrangement pemancar cahaya inframerah dekat (NIR) kami mampu mengekalkan kestabilan suhu pada tahap wafer dalam lingkungan ±0.1°C di seluruh kawasan aktifnya. Ketepatan penetapan suhu pula kekal pada tahap ±0.2°C daripada satu kumpulan wafer ke kumpulan wafer yang lain. Kenaikan suhu berlaku pada kadar 10°C/s tanpa melebihi had yang ditetapkan, jadi profil suhu semasa proses pembakaran tetap stabil. Sistem ini direka untuk digunakan dalam suasana bilik bersih kelas 1–100, dan kawasan panasnya direka agar tidak menghasilkan sebarang zarah kontaminan – sehingga mengurangkan jumlah zarah kontaminan pada permukaan wafer kepada kurang dari 1 zarah setiap kali proses pembakaran dilakukan. Sistem ini dapat beroperasi secara berterusan dengan masa operasi melebihi 50,000 jam, dan struktur pemanasnya mampu mengekalkan kestabilan keluaran selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan intensiti pemanasan kurang dari 5%.
Dalam proses litografi, ketepatan ini sangat penting – ia mempengaruhi hasil pengeluaran. Profil bahan fotoresist akan tetap berada dalam julat yang ditetapkan, kawalan dimensi kritikal juga menjadi lebih baik, dan jumlah wafer yang perlu diperbaiki pun berkurangan. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana kita dapat menyesuaikan daya pancaran cahaya agar sesuai dengan spektrum penyerapan bahan fotoresist, tanpa mengurangkan kelajuan pengeluaran. Selain itu, kebolehpercayaan sistem ini memastikan bahawa komponen seperti alat pelapis dan alat pembakaran dapat berfungsi seperti yang diharapkan, dari masa ke masa.
Berikut adalah butiran praktikalnya: Pemanasan menggunakan cahaya NIR memerlukan pandangan langsung dan laluan cahaya yang terkawal. Peranti reflektif dan pelindung perlu disesuaikan dengan spektrum cahaya yang dihasilkan oleh pemancar; jika tidak, akan timbul kawasan yang terlalu panas. Integrasi sistem ini memerlukan sumber kuasa khusus serta pengasingan termal daripada komponen-komponen lain. Kawasan panas perlu diselenggara setiap 8,000 jam untuk memastikan kestabilan suhu.
Rancang masa pelancaran sistem ini dengan teliti. Sistem ini hanya akan berfungsi dengan baik apabila keseluruhan komponen termasuk pemancar, sensor, dan pengawal suhu diselaraskan dengan tepat dengan wafer yang diproses.