なぜ半導体の乾燥において熱風ではなく赤外線を使うのか
正直言って、洗浄工程は通常、作業が遅くなる部分です。
長年にわたり、一般的に使われてきたのは熱風循環方式でした。しかし、これは要するに、ウェーハを乾燥させるために巨大な空気の箱を加熱しているに過ぎません。時間や電力の無駄に思えます。
そのため、私たちは防水型の赤外線ランプに切り替えました。部屋全体を温める代わりに、このランプはエネルギーを直接基板に照射します。これは全く異なるアプローチです。
時間の問題
熱風は効率が悪いです。水分を排出し、空気を加熱する必要があり、実際に何かが起こるまでに時間がかかります。
一方、赤外線ランプは即座に対象物にエネルギーを与えます。数秒で済みます。1回の処理にかかる時間が短縮されるため、生産性が向上します。だからこそ、大量生産を行う工場ではこの方式が採用されているのです。
汚れの問題
通常、赤外線ランプと水は相容れません。通常の電球は、湿った環境や洗浄液の飛沫に触れるとすぐに壊れてしまいます。
私たちは、密封された石英製のケースや頑丈なシールを使用することで、この問題を解決しました。これにより、湿気や水が内部に入るのを防ぎ、フィラメントを守ることができます。水が飛び散ってもショートする心配がなく、洗浄槽の上でも正常に動作します。
注意点
もちろん、完璧なわけではありません。いくつかのデメリットもあります。
高強度の赤外線は急速に大量の熱を放出するため、冷却装置をしっかり設計する必要があります。温度管理を怠ると、ブラケットが変形したり、近くのセンサーが破損したりする可能性があります。理想的ではありません。
安定性を保つためには、PIDコントローラーを使って出力を調整することをお勧めします。これにより、ウェーハの表面温度が目標値を超えるのを防げます。スピードを維持しつつ、プロセスが乱れるのを防ぐことができます。