半导体加热技术的未来

在光刻工厂中，光阻烘烤过程中哪怕出现0.5°C的温度偏差，都可能导致整批产品报废。在晶圆层面，温度控制并非可选项，而是必须严格遵守的准则。我们正是基于这一要求来设计加热平台的。 从技术上来看，我们的近红外发射器阵列能够确保晶圆工作区域的温度均匀性保持在±0.1°C范围内，而且不同批次之间的温度稳定...