製造現場では、ご存知の通り、フォトレジストを加熱する際に0.3℃の温度変動があるだけで、パターンの精度がナノメートル単位で乱れ、多大な損失を招くことになります。Evatecの蒸発器用ヒーターランプは、そうした温度変動を発生する前に防ぐように設計されています。
実際に重要なのは何か？ 私たちは、クローズドループ制御機能を持つ短波長NIRクォーツエミッターを使用しているため、ウェーハ全体の温度均一性を±0.1℃以内に保つことができます。応答時間は200ms未満であり、そのため設定値の変更も迅速に行えます。また、過度な温度上昇による問題も起こりません。ランプ本体はクラス1～100のクリーンルーム環境に適合しており、粒子数をコントロールする設計により、長時間の稼働中でも汚染が進行するのを防ぎます。出力は5,000時間以上安定しており、温度変動は5％未満です。
なぜこれがリソグラフィーや加熱処理に役立つのか？ リソグラフィーやフォトレジスト処理においては、ソフトベイクやハードベイクの温度が、パターンの寸法や接着性を決定します。Evatecの装置によって、ベイクプロファイルが再現可能になり、その結果、ロット間でのパターンの品質が一定に保たれます。また、熱の供給が迅速かつ安定しているため、処理時間が短縮され、1枚あたりのエネルギー消費も減少します。
パッケージングラインにおいても、同じ精度によってポリマーの硬化が安定し、空洞や再作業が減少します。その結果、不良率が低下し、計画通りに生産を進めることができます。
正確に機能させるために必要なこと ランプはEvatecの蒸発器に簡単に取り付けられますが、制御回路が正しく機能するためには、安定した電力供給と清潔な電気接点が必要です。また、チャックの材料や放射率も重要です。アルミニウム、セラミック、塗装表面など、それぞれに対応した使用ガイドもあります。
四半期ごとの校正と、年に一度のエミッターの点検が必要です。これにより、温度均一性が維持され、粒子数も適切な水準に保たれます。