半導体加熱技術の未来

ファブの現場では、フォトレジストを焼成する際に0.5℃の温度変動があれば、そのロット全体が廃棄処分になってしまいます。ウェーハレベルでの熱管理は単なる提案ではなく、必須の要件です。私たちはこの現実を踏まえて加熱プラットフォームを設計しました。 技術的に重要な点としては、当社の近赤外線放射体アレイに...